CF4等離(li)子(zi)刻(ke)蝕儀：深圳(zhen)深(shen)光達(da)科(ke)技有限公(gong)司(si)深耕等(deng)離(li)子(zi)技術域十余載(zai)，表面(mian)處(chu)理(li)解(jie)決(jue)方(fang)案服(fu)務商。

CF4等離(li)子刻(ke)蝕儀產品圖(tu)片：

深圳(zhen)深(shen)光達(da)科(ke)技有限公(gong)司(si)深耕等(deng)離(li)子(zi)技術域十余載(zai)，表面(mian)處(chu)理(li)解(jie)決(jue)方(fang)案服(fu)務商。公(gong)司(si)自主研(yan)發的真(zhen)空、大氣(qi)常(chang)壓及(ji)微波(bo)等離子(zi)清洗設備，精(jing)準清(qing)洗與活化，設備連續運(yun)行(xing)穩定性達(da)99.6%以(yi)上，通(tong)過ISO 9001/14001雙體(ti)系認(ren)證(zheng)。其(qi)低(di)溫(wen)真(zhen)空等離子(zi)去膠機**在(zai)半(ban)導體封(feng)裝環節實(shi)現每小時(shi)300片(pian)晶(jing)圓的量(liang)產處(chu)理(li)，刻(ke)蝕均勻(yun)性(xing)誤(wu)差＜3%，助(zhu)力(li)客戶(hu)良品率提(ti)升20%+。針(zhen)對(dui)汽車內(nei)飾(shi)、醫療導(dao)管(guan)等復雜曲面(mian)，**常(chang)壓旋轉(zhuan)噴槍系統**可完(wan)成360°處(chu)理(li)，表(biao)面(mian)張(zhang)力(li)值穩定提(ti)升至(zhi)72mN/m以(yi)上。現已(yi)在(zai)富士康(kang)、比亞(ya)迪等(deng)200+企(qi)業產線(xian)中(zhong)實(shi)現7×24小時(shi)不(bu)間斷(duan)作業，設備MTBF突(tu)破(po)8000小時(shi)，以(yi)航空品質重(zhong)新定義(yi)工業(ye)清(qing)洗標準(zhun)。