射頻(pin)等離(li)子體(ti)處(chu)理儀是壹款針對實驗(yan)室需(xu)要(yao)專門(men)開發的小型臺式等(deng)離(li)子清(qing)洗機(ji)，處(chu)理室為(wei)圓(yuan)筒(tong)形(xing)石(shi)英(ying)玻(bo)璃(li)，處理器(qi)為(wei)電容耦合外(wai)電極型，內部(bu)無電極。

產(chan)品簡介：VPS-MF05R是壹款旋轉型真空(kong)等(deng)離(li)子處(chu)理儀，主(zhu)要用於(yu)處(chu)理各種粉末、粉體材料(liao)（尤其(qi)是納(na)米(mi)粉體(ti)材料），例(li)如炭(tan)黑(hei)、碳(tan)納(na)米(mi)管(guan)粉(fen)末、硼(peng)粉、鋁粉、鐵(tie)粉(fen)、橡膠(jiao)粉(fen)、聚乙(yi)二(er)醇(chun)粉(fen)末、蠟基溫拌(ban)添(tian)加劑粉(fen)、催化劑粉(fen)體(ti)、雲(yun)母粉、二(er)氧(yang)化(hua)矽(gui)、高(gao)分(fen)子聚(ju)合(he)物(wu)粉體(ti)等(deng)材料(liao)的(de)表面(mian)活(huo)化改性。通過等離(li)子體(ti)中高(gao)能粒子(zi)轟擊粉體表面(mian)，改變了(le)粉體表面(mian)的(de)形貌後(hou)引入(ru)各(ge)種活(huo)性基團(tuan)，同時(shi)等(deng)離(li)子處(chu)理可以除去表面(mian)吸(xi)附的壹(yi)些雜質(zhi)，從(cong)而達到改善粉體(ti)親(qin)水性，分(fen)散性(xing)，相(xiang)容(rong)性(xing)，流(liu)動(dong)性(xing)，催化性等(deng)目(mu)的(de)。

射(she)頻(pin)等離(li)子體(ti)處(chu)理儀應用：提(ti)升(sheng)相(xiang)容(rong)性(xing)、改善分(fen)散性(xing)、提(ti)高(gao)催化速(su)率(lv)、提(ti)升(sheng)親(qin)水性、提(ti)高(gao)流(liu)動(dong)性(xing)、引入(ru)官(guan)能(neng)團(tuan)。

射(she)頻(pin)等離(li)子體(ti)處(chu)理儀特(te)點：動(dong)態滾(gun)筒(tong)旋轉處(chu)理；全位(wei)均勻處(chu)理；壹機(ji)兩用（不(bu)旋轉相(xiang)當(dang)於(yu)普(pu)通真(zhen)空(kong)等(deng)離(li)子處(chu)理儀）；粉(fen)體過濾系(xi)統（防(fang)止粉(fen)末吸(xi)入真空(kong)泵(beng)，影(ying)響真空(kong)泵(beng)壽(shou)命(ming)）低能(neng)耗、汙(wu)染小、處(chu)理時(shi)間短、效(xiao)果等(deng)明(ming)顯的(de)特(te)點。

產(chan)品參(can)數(shu)：