大(da)型(xing)真(zhen)空(kong)等離子(zi)體(ti)清洗(xi)設備(bei)VPS-RF210是壹(yi)款(kuan)針(zhen)對(dui)實驗(yan)室(shi)需(xu)要(yao)專(zhuan)門(men)開(kai)發的(de)小(xiao)型(xing)臺式等離子(zi)清洗(xi)機(ji)，處(chu)理(li)室(shi)為(wei)圓筒形石(shi)英玻(bo)璃(li)，處(chu)理(li)器(qi)為(wei)電(dian)容(rong)耦(ou)合外(wai)電極(ji)型(xing)，內(nei)部(bu)無電極。

大(da)型(xing)真(zhen)空(kong)等離子(zi)體(ti)清洗(xi)設備(bei)VPS-RF210簡(jian)介(jie)：

VPS-RF210是壹(yi)款(kuan)大(da)型(xing)真(zhen)空(kong)等離子(zi)體(ti)清洗(xi)設備(bei)，適(shi)用(yong)於(yu)大(da)批量(liang)工業(ye)生(sheng)產使(shi)用(yong)。等離子(zi)體(ti)清洗(xi)通(tong)過(guo)其中(zhong)的(de)活性(xing)離子(zi)與物(wu)體(ti)表(biao)面發生(sheng)化學(xue)反應來(lai)達(da)到清洗(xi)的(de)目(mu)的(de)。例(li)如(ru)通(tong)過(guo)氧氣(qi)清潔(jie)物(wu)體(ti)表(biao)面的(de)有(you)機(ji)物(wu)，產生(sheng)氧(yang)化反應，氧(yang)等離子(zi)體(ti)和(he)汙(wu)染物(wu)產生(sheng)二氧化碳(tan)、氧化碳(tan)和(he)水(shui)。通(tong)過(guo)氮氣電離(li)形(xing)成(cheng)的(de)等離子(zi)體(ti)可以與部(bu)分子(zi)結(jie)構(gou)發生(sheng)關(guan)鍵(jian)反應，因此(ci)它(ta)也(ye)是(shi)壹(yi)種活性(xing)氣體(ti)，但與氧氣(qi)和(he)氫(qing)氣(qi)相(xiang)比(bi)，顆粒相(xiang)對(dui)較(jiao)重；在(zai)清(qing)洗(xi)和(he)活化的(de)同時(shi)，可以達(da)到壹(yi)定的(de)轟擊和(he)蝕刻(ke)效(xiao)果(guo)，防(fang)止(zhi)部(bu)分金(jin)屬表(biao)面氧化。如(ru)今，等離子(zi)清洗(xi)機(ji)廣泛(fan)用(yong)於(yu)當代(dai)半導體(ti)、電路(lu)等行(xing)業，在(zai)元(yuan)件(jian)封(feng)裝前(qian)、芯片(pian)鍵(jian)合(he)前(qian)可借助(zhu)等離子(zi)清洗(xi)處(chu)理(li)，其優(you)點(dian)是(shi)清(qing)除效(xiao)率(lv)高，不(bu)會對(dui)樣(yang)品表(biao)面造成(cheng)損(sun)傷，從而提升產品(pin)的(de)質(zhi)量(liang)。

大(da)型(xing)真(zhen)空(kong)等離子(zi)體(ti)清洗(xi)設備(bei)特點(dian)：歐美放電技術，專(zhuan)業(ye)型(xing)放(fang)電(dian)結(jie)構(gou)，科學(xue)仿真等離子(zi)體(ti)分布均(jun)勻(yun)，處(chu)理(li)效(xiao)果(guo)均(jun)勻(yun)。

產品(pin)應(ying)用(yong)：提高(gao)親水性(xing)、改善(shan)粘接(jie)性(xing)、表(biao)面微刻(ke)蝕、有機(ji)物(wu)去除、提高(gao)表(biao)面能、提高(gao)印刷(shua)油墨(mo)附(fu)著力。

產品(pin)參數：